中信证券10月23日研报指出，国内对于光刻机产业链的投资和支持力度持续加大，国产高端光刻机的发展有望获得推动，半导体设备产业链将有望同步受益。我们认为，未来若DUV及EUV设备逐步实现国产化突破，对28nm和14nm产线有能力逐步实现国产替代，有望迎来新一轮的半导体扩产周期。建议关注受到光刻机“卡脖子”问题影响的半导体制造、设备、零部件自主化替代的相关公司，尤其是光刻工艺相关的设备和零部件厂商。

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