清溢光电：佛山生产基地项目拟引入的光刻设备将不限于激光光刻机，将适时考虑引入电子束光刻机

清溢光电10月18日公告，目前，佛山生产基地项目在厂房设备以及目标客户等方面已经进行了比较充分的调研和评估，项目涉及的设备在按计划采购中，部分设备已支付定金等款项。

半导体掩膜版业务方面，公司目前已拥有业内先进的激光光刻机，CD精度可达到130nm掩膜版的要求。佛山生产基地项目拟引入的光刻设备将不限于激光光刻机，也将适时考虑引入电子束光刻机。

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